Información Básica.
No. de Modelo.
TY-RF
Material
abs, ss, etc.
Característica
Desechable
Certificación
CE, ISO13485
clasificación de instrumentos
clase ii
tipo de desinfección
eos
vida útil
3 años
Paquete de Transporte
bandeja de plástico + envase blíster+
Origen
Jiangsu, China
Capacidad de Producción
300 juegos/juegos por mes
Descripción de Producto
La corriente de RF genera energía entre los dos electrodos del cabezal de corte y excita el medio conductor (solución salina fisiológica o líquido corporal) en la sección frontal para generar plasma. Las partículas de alta energía del plasma pueden descomponer los enlaces moleculares en el tejido, de modo que se evapore, coagule, ablice y corte el tejido bajo la premisa de contacto con el tejido.
| Hoja de plasma | Hoja HF tradicional | |
| Medios excitables | Naci | Savia celular |
| Temperatura de funcionamiento | 40-70°C. | 120-300°C. |
| Modo de funcionamiento | Romper enlace molecular, vaporizando | Energía de calor, quemadura |
| Cambio de tejido | Proteína reversible | Proteína irreversible, necrosis |
| Principio y método | Vaporizar y reducir el volumen, eliminar la opresión de la raíz nerviosa | Daño al nervio sensorial, sin reducción de volumen |
| Pala | La hoja no está calentada, el calor causado por el choque iónico <70°C. | La hoja está caliente, coagulación caliente |
| Cicatrización de tejidos | Rápido | lento |
·Consejos médicos
Los electrodos están diseñados específicamente para la ablación de la tiroides y la ablación de los ganglios linfáticos. - tienen fácil penetración y maniobrabilidad dentro del tejido
Cuando se aplica una corriente de rf a una bobina plana, se crea un campo magnético oscilante (campo B) tanto por encima como por debajo de él. Esto genera un campo eléctrico rf principalmente azimutal. Dentro de la cámara de vacío, este campo E inicia una avalancha de electrones que crea el plasma.
Los plasmas de radiofrecuencia (plasmas de rf) se forman en un flujo de gas mediante un campo de radiofrecuencia aplicado externamente. La eficiencia de acoplamiento es la relación de potencia aceptada por el plasma con la potencia incidente, es decir, la salida del oscilador. La potencia reflejada es la potencia reflejada al oscilador.
